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磁控濺射儀可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。
磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設(shè)備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設(shè)備采用先進(jìn)的磁控濺射鍍膜技術(shù),配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng),使得靶材原子或分子從固體表面射出,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種。設(shè)計(jì)而成的簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實(shí)驗(yàn)室制備掃描電鏡樣品使用,且設(shè)備體積小巧,
VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)可在手套箱內(nèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)操作,用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該系統(tǒng)配置三個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源通過轉(zhuǎn)換開關(guān)可以分別連接至任一靶頭,用于各類靶材的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍,一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),